全自动软着陆扩散炉
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全自动软着陆扩散炉

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  • 产品简介
  • 产品特点
  • 技术参数
  • 应用范围
  主要用于在硅片表面掺杂、氧化、合金、退火等半导体制程工艺,是集成电路、微电子、晶体硅太阳能电池、电力电子等行业的关键电子专用设备,其性能技术指标已经达到国际先进技术水平。 详情1
  •   1、自动上下料
      提高设备自动化,降低人工劳动强度,减少人工污染;
      2、高精度温度控制
      采用自主研发、设计、制造的超大口径、超长温区高温炉体;控温精度达0.1℃级别的五段双回路温度控制系统;
      3、电气控制
      强弱电分离,提高设备可靠性、安全性和抗干扰能力;
      4、软着陆送片机构
      采用高洁净无油水平传送机构,大负荷、高稳定平稳升降机构;SiC悬臂桨在工艺时不再停留在反应室,缩短了工艺回温时间,实现SiC桨免清洗,延长了SiC悬臂桨的使用寿命;
      5、拥有知识产权著作登记权的高温扩散/氧化系统监控软件
      工艺全自动监控、触摸屏操作;事件记录报警功能,使得设备状态、操作可追溯;具备大规模组网功能接口,为企业的信息化管理提供了高效平台;
      6、压力监控系统
      将压力参数引入晶体硅太阳能电池扩散/氧化工艺,有效减小了尾部排风对工艺的干扰,减小由排风引起的工艺波动。
  • 内容2
  •   1、 炉膛有效内径:       Ф350mm (适用于外径为Ф330mm的石英管);
      2、温度控制范围:       400~1100℃;
      3、产能:500片/管
      4、 恒温区长度及精度:   ≤±0.5℃/1080mm   (801~1100℃);
      ≤±1℃/1080mm (400~800℃)
      5、单点温度稳定性:     ≤±1℃ /4h      (900℃时);
      6、温度控制方式:    五段快速回温系统;
      7、配备反应管压力自平衡系统
      8、炉体升降温速率:    最大升温速率:15℃/分钟,最大降温速率:5℃/分钟;
      9、具有自动斜率升降温及恒温功能;
      10、具有超温、断偶、热偶短路、流量偏差报警和保护功能;
      11、净化工作台净化级别: 1000级 (环境10000级);
      12、悬臂式SiC桨软着陆送舟机构。水平进舟速率50mm/min~800mm/min连续可调,垂直升降速率: 8mm/min~12mm/min;石英炉门自动密封,气缸推动完成水平二级推动和旋转运动。
      13、工艺过程由工控计算机全自动控制,直接在触摸屏上操作。
  • 参数
  •   扩散炉是半导体加工中的典型热处理设备,用于集成电路、分立器件、太阳能光伏行业中进行P掺杂、B掺杂、氧化、合金、退火等工艺
  • 范围4
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